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日本大学 
生産工学部 
電気電子工学科 

更新日:2016/03/31 
顔写真 教授 
清水 耕作 
シミズ コウサク 
SHIMIZU kousaku 

 
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学歴 (公開件数:1件)
大阪大学  大学院 基礎工学研究科  物理系専攻  博士後期  1999  修了  国内 

学位 (公開件数:1件)
博士(工学)  大阪大学 

研究分野 (公開件数:2件)
電子デバイス・電子機器 
無機材料・物性 

研究キーワード (公開件数:12件)
半導体 
多結晶シリコン系薄膜 
シリコン 
ゲルマニウム 
デバイス 
トランジスタ 
薄膜デバイス 
化学堆積法 
化学反応 
流体力学 
酸化物半導体 
光学評価 

研究テーマ (公開件数:2件)
流体シミュレーション法を用いたCVD中のガスの流れ解析  2006-現在 
酸化物半導体のギャップ内準位の評価  2006-現在 
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共同・受託研究実績 (公開件数:2件)
新エネルギー実用化に関する研究  2012-現在 
ナノインプリント技術によるエネルギー低消費社会の創成  2009-2013 
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著書 (公開件数:3件)
波長変換用蛍光体材料  シーエムシー出版  2012/08/31 
薄膜トランジスタ  コロナ社  2008/11 
低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発 -システムオンパネルをめざして -  シーエムシー出版  2007/02/28 
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論文 (公開件数:10件)
Deposition and Characterization of Polycrystalline Silicon Thin Films by Reactive Thermal CVD at 450oC  Solid State Phoenomena  2004/10 
High mobility top-gate thin film transistors fabricated with poly-Si1-xGex thin films on glass substrate  J. Non-Cryst. Sol  2004/08 
Post hydrogenation effect by hot wire method on poly-crystalline silicon based devices  J. Non-Cryst. Sol.  2004/08 
Ni-seeding effects on the properties of polycrystalline silicon germanium grown at low temperature  Appl. Phys. Lett.  2003/10 
反応性熱CVD法による多結晶Si1-xGex薄膜の低温堆積とTFTへの応用  電子情報通信学会論文誌  2003/08 
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研究発表 (公開件数:95件)
口頭発表(一般)  非晶質InGaZnO4の酸素化及び水素化によるバンド吸収端の特性評価  第12回 薄膜材料デバイス研究会  2015/10/31 
口頭発表(一般)  変調アドミタンス法による原子状水素供給スパッタ法により成膜されたp-i/i-n界面の評価  第12回 薄膜材料デバイス研究会  2015/10/31 
口頭発表(一般)  非晶質酸化物半導体薄膜トランジスタの特性不安定性解析  第12回 薄膜材料デバイス研究会  2015/10/30 
口頭発表(一般)  Evaluations of Stress Induced Instabilities of Amorphous Oxide Semiconductors using reflection CPM and ther relations with TFT instabilities  26th international Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors  2015/09/18 
ポスター発表  Evaluation of Absorption-edge Properties of a- InGaZnO4 by Oxygenation or Hydrogenation using PYS/IPES  26th international Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors  2015/09/15 
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所属学協会 (公開件数:1件)
応用物理学会  1987/12/10-現在 
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